MATRIX SYSTEM 10二手刻蝕機,反應離子刻蝕RIE、Plasma asher雙模式,可對6-8英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理。
制造商:matrix
型號:system 10
類別:etcher/asher
晶圓尺寸:6"-8"
設備詳細信息:
反應離子蝕刻器 (RIE) / 等離子灰化器,6"-8"
真空泵組
冷卻器和手動
閉環溫度控制系統
蝶形壓力控制器
分散氣室
引腳向上/向下處理
相位幅度射頻匹配調諧器





MATRIX SYSTEM 10二手刻蝕機,反應離子刻蝕RIE、Plasma asher雙模式,可對6-8英寸的晶圓進行蝕刻工藝加工處理。
制造商:matrix
型號:system 10
類別:etcher/asher
晶圓尺寸:6"-8"
設備詳細信息:
反應離子蝕刻器 (RIE) / 等離子灰化器,6"-8"
真空泵組
冷卻器和手動
閉環溫度控制系統
蝶形壓力控制器
分散氣室
引腳向上/向下處理
相位幅度射頻匹配調諧器





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